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高真空膜渗透设备

高真空膜渗透设备

简要描述:

该设备采用进口CKD电磁阀程序自动化控制,设计合理,操作简单,实验误差小,实验数据可靠。

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该高真空膜渗透装置内部阀控部件全部采用日本进口CKD电磁阀程序控制,                                           该装置结构布局合理,操作便捷,                                                                                                   可实现膜渗透实验的稳定进行。该设备工作温度室温8~60℃,工作压力为0~1Mpa,                                     真空度可低至3 Pa。设备通讯模块皆采用rs485通讯连接,                                                 采集数据稳定,可实验自动循环抽真空和手动抽真空等操作。                                                   工作温度:室温 8~60℃

真空度:3 Pa

使用压力:0~1Mpa

设备可用于测试0-10mpa压力范围内的动态多元材料吸附测试;设备安装稳定的背压阀及气体高压仓,用于快速稳定的实现系统压力稳定及气体流速稳定。

 

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